Après les J-NIL 2021, le comité d’organisation du Réseau National Lithographie par NanoImpression (RéNIL) vous invite à participer aux prochaines journées consacrées aux procédés de Lithographie par NanoImpression et aux développements technologiques associés.
Ces journées sont ouvertes à toutes et tous et couvrent un large spectre d’applications. C’est une nouvelle occasion de rassembler la communauté scientifique qui souhaite partager ou découvrir les développements associés à ces technologies.
Les J-NIL 2023 se tiendront les 11 et 12 mai 2023 à l’Institut des Nanotechnologies de Lyon ( https://inl.cnrs.fr/ ) au sein de son nouveau bâtiment Irène Joliot Curie sur le campus universitaire de La Doua à Villeurbanne.
*Pour vous inscrire : https://events-inl.ec-lyon.fr/jnil2023/
Inscription GRATUITE mais obligatoire pour les étudiants et contractuels
Inscription 160€ pour les personnels chercheurs permanents (via Azur Colloque)
Incription 320€ pour les industriels et start-up avec possibilité d’accueil sur stand et/ou présentation (règlement via Azur Colloque)
Attention, le nombre de places est limité!
N’hésitez pas à diffuser les dates de cet évènement.
Nous vous attendons nombreuses et nombreux !