2020-2021 - Renatech

Area Selective Deposition using plasma ALD and etching

Posted: 16 février 2021

Area Selective Deposition using plasma ALD and etching février 16th, 2021Caroline

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Une solution pour détecter et suivre la pollution des sous-sols

Posted: 9 juillet 2020

Une solution pour détecter et suivre la pollution des sous-sols juillet 9th, 2020Caroline

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C’Nano 2020: The Nanoscience Meeting

Posted: 8 juillet 2020

C’Nano 2020: The Nanoscience Meeting juillet 8th, 2020Caroline

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C’NANO I PhD Thesis Prizes 2020 I Call for application

Posted: 11 juin 2020

C’NANO I PhD Thesis Prizes 2020 I Call for application octobre 8th, 2020Caroline

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Les composants clés d’un récepteur d’ondes térahertz, fabriqués en salle blanche au C2N, embarqueront à bord de la mission JUICE de l’ESA

Posted: 29 mai 2020

Les composants clés d’un récepteur d’ondes térahertz, fabriqués en salle blanche au C2N, embarqueront à bord de la mission JUICE de l’ESA mai 29th, 2020Caroline

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First international workshop dedicated to Plasma Cryogenic Etching Processes

Posted: 6 février 2020

PlaCEP 2020 May 5-7, 2020 – Orléans, France PlaCEP 2020 aims at gathering researchers and engineers working, or interested in cryogenicetching and share knowledge as well as experience in this very specific field. Scientific Topics Cryogenic etching processes of silicon and other materials (low-K, …) Modelling and simulation of cryogenic processes Passivation layer growth and […]

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